Maxime Darnon

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Identifiants chercheurs

maxime-darnon
0000-0002-6188-7157
Google Scholar : https://scholar.google.fr/citations?user=ZRXEV4AAAAAJ&hl=fr
IdRef : 124051758

Présentation

camille-petit-etienne

"ali-soltani"

	Impact of plasma etching process exposure on the integrity of AlN and AlGaN layers integrated in GaN heterojunction transistors (HEMTs) Fesiienko Oleh , Erwine Pargon , Hassan Maher , Camille Petit-Etienne , Ali Soltani Journées nationales sur les technologies émergentes en micro-nano fabrication, (JNTE2019), Nov 2019, Grenoble, France Communication dans un congrès hal-02916150v1