Maxime Darnon

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maxime-darnon
0000-0002-6188-7157
Google Scholar : https://scholar.google.fr/citations?user=ZRXEV4AAAAAJ&hl=fr
IdRef : 124051758

Présentation

"emilie-despiau-pujo"

"olivier-joubert"

"michel-pons"

	Roughness generation during Si etching in Cl 2 pulsed plasma Odile Mourey , Camille Petit-Etienne , Gilles Cunge , Maxime Darnon , Emilie Despiau-Pujo Journal of Vacuum Science & Technology A, 2016, 34 (4), ⟨10.1116/1.4951694⟩ Article dans une revue hal-01881982v1