MD
Maxime Darnon
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Identifiants chercheurs
- maxime-darnon
- 0000-0002-6188-7157
- Google Scholar : https://scholar.google.fr/citations?user=ZRXEV4AAAAAJ&hl=fr
- IdRef : 124051758
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Roughness generation during Si etching in Cl 2 pulsed plasmaJournal of Vacuum Science & Technology A, 2016, 34 (4), ⟨10.1116/1.4951694⟩
Article dans une revue
hal-01881982v1
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Silicon etching using CW, synchronized pulsed and bias pulsed Cl2 plasmaAVS 2014, , 2014, Baltimore, United States
Communication dans un congrès
hal-01798348v1
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