MD
Maxime Darnon
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Identifiants chercheurs
- maxime-darnon
- 0000-0002-6188-7157
- Google Scholar : https://scholar.google.fr/citations?user=ZRXEV4AAAAAJ&hl=fr
- IdRef : 124051758
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Patterning of narrow porous SiOCH trenches using a TiN hard maskMicroelectronic Engineering, 2008, 85 (11), pp.2226-2235. ⟨10.1016/j.mee.2008.06.025⟩
Article dans une revue
hal-00387506v1
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