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Maxime Darnon

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Identifiants chercheurs

maxime-darnon
0000-0002-6188-7157
Google Scholar : https://scholar.google.fr/citations?user=ZRXEV4AAAAAJ&hl=fr
IdRef : 124051758

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Publications

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	Selective dry etching of TiN nanostructures over SiO2 nanotrenches using a Cl2/Ar/N2 inductively coupled plasma Bruno Lee Sang , Marie-Josée Gour , Maxime Darnon , Serge Ecoffey , Abdelatif Jaouad Journal of Vacuum Science and Technology, 2016, 34 (2), ⟨10.1116/1.4936885⟩ Article dans une revue hal-01701405v1
	Inductively coupled plasma etching of ultra-shallow Si3N4 nanostructures using SF6/C4F8 chemistry Bruno Lee Sang , Marie-Josée Gour , Abdelatif Jaouad , Serge Ecoffey , Maxime Darnon Microelectronic Engineering, 2015, 141, pp.68 - 71. ⟨10.1016/j.mee.2015.01.014⟩ Article dans une revue hal-01916788v1